フォトマスク

Photo Fabrication

「ナノの世界のエキスパート」をスローガンに、フォトファブリケーション一筋に約40年。新しいレーザー直接描画装置の導入により、より高精度、より高品質なパターンをお届けします。 光学、医療機器、半導体製造装置、精密、測定機器など活躍の場所は広範囲に及び、単品から量産までフレキシブルに対応いたします。

縮小投影型露光装置(ステッパー)
応用露光機(ステッパー)
レーザー直接描画装置
■当社が導入したレーザー直接描画装置は、お客様が望むあらゆるパターン形状を高精度に描画します。
■フォトマスクの製造販売の他、レーザー直接描画装置により作成された高精度フォトマスクと、当社の卓越したフォトファブリケーション技術、熟練した加工技術により量産品の生産も行っています。

フォトマスク 3D

3Dパターン(レジスト像)の製作が可能です。(形状につきましては別途ご相談要) レジストパターン後の、Ni電鋳・インプリントまで、各社様と協業を取っておりますので、レジストパターンだけではなく、インプリントまでの製作もご相談に応じさせて頂きます。

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グレイスケールマスク(3D) パンフレットダウンロードはこちら
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